CAS 번호:1034343-98-0 그래핀

부식 방지 코팅에서 물리적 장벽을 달성하기 위해 그래핀을 사용하는 핵심 원리는 단일-층 2-시트 구조를 기반으로 합니다. 코팅이 형성된 후에는 공간에 상호 연결되고 조밀한 연속 "시트 미로 장벽"을 형성합니다. 공간 장벽, 경로 확장, 결함 밀봉이라는 3차원에서 물, 산소, 염화물 이온과 같은 부식성 매체가 금속 기판으로 침투하는 것을 차단합니다. 동시에 자체 화학적 안정성은 재료가 부식 반응에 참여하는 것을 방지하여 궁극적으로 코팅의 부식 방지 성능을 크게 향상시킵니다.-

실란 커플링제로 그래핀을 개질하는 핵심은 다음과 같이 요약할 수 있습니다. 실란 커플링제의 이중 관능기를 브리지로 사용하여 그래핀의 결함 부위에 안정적인 Si-O-C 공유 결합이 형성되어 실란 커플링제의 목표 그래프팅을 달성합니다. 궁극적으로 외부 유기 기능성 말단을 통해 그래핀의 분산이 동시에 향상되고 매트릭스와 인터페이스 사이의 결합력이 향상됩니다. 또한, 결함 부위만 변형되므로 sp² 구조와 그래핀 고유의 특성이 최대한 유지되므로 변형 효과와 성능 유지의 균형을 맞추는 효율적인 방법입니다.

열 인터페이스 재료(TIM)로 간격을 채우고 포논을 연결하고 보조 조치로 프로세스 최적화를 통해 접촉 면적을 향상시키며 포논 전송/CTE를 일치시키는 복합 재료의 구조 설계를 기반으로 세 가지 요소가 함께 작동하여 인터페이스 열 저항을 크게 줄입니다.

2차원 초-층 구조, 초-기계적 특성, 높은 비표면적을 바탕으로 적은 첨가량으로도 고무 매트릭스에 연속적인 층 네트워크를 형성할 수 있습니다. 찢어짐 방지를 위해-균열 편향, 고정, 브리징 + 강력한 인터페이스 응력 전달을 통해 효율적인 보강이 이루어집니다. 노화 방지를 위해 2-밀도 층(산소/자외선/오존)의 물리적 장벽 + 결함 부위의 자유 라디칼 포집을 통해 다중-효과 보호가 실현됩니다.

완벽한 단일{0}층 그래핀의 극도로 높은 열전도율은 평면 방향(마이크로미터{3}}스케일 평균 자유 경로)을 따라 포논의 긴-범위, 낮은 저항{2}}전송에서 비롯됩니다. 결함은 포논의 산란 중심 역할을 하며 기하학적/화학적 산란을 통해 포논의 평균 자유 경로를 직접 단축합니다. 레이어 수가 증가하면 층간 포논 산란 및 모드 결합이 발생하여 평면 내 포논의 효율적인 전송을 방해하여 포논 전송 효율성을 근본적으로 감소시킵니다. 게다가, 결합된 효과는 산란 효과를 두 배로 증가시킵니다.