제품 설명

4-tert-부톡시스티렌(PTBS)은 산에 불안정한 tert-부톡시 보호기를 갖는 스티렌 단량체입니다. 탈보호 후 폴리히드록시스티렌(PHS)을 형성하며 금속 불순물이 매우 적고 열안정성이 우수하여 KrF 포토레지스트의 핵심 원료입니다.

제품 사양

4-tert-부톡시스티렌(PTBS)은 주로 반도체 마이크로일렉트로닉스, 기능성 고분자 재료 및 생체의학 표적 캐리어 산업의 KrF 포토레지스트에 사용됩니다.

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Q: 4-tert-부톡시스티렌의 보관 요건은 무엇입니까?

A: 산소에 민감합니다. 빛과 열로부터 2~8도 떨어진 불활성 가스로 밀봉하여 보관하세요. 자가중합을 방지하기 위해 억제제로 안정화되었습니다.

Q: KrF 포토레지스트에서 PTBS 단량체의 기능은 무엇입니까?

A: 폴리머는 tert-부톡시 보호 그룹을 가지고 있습니다. 광산은 노출 후 탈보호를 유발합니다. 수지가 알칼리 불용성에서 알칼리 가용성으로 변화하여 패턴 개발을 실현합니다.

Q: 왜 PTBS의 금속이온 함량을 엄격하게 통제해야 합니까?

A: 반도체 포토레지스트의 경우 미량 금속 불순물로 인해 웨이퍼 누출이 발생하고 수율이 감소합니다. 금속 이온은 ppb 수준으로 제어됩니다.

Q: KrF 포토레지스트 외에 PTBS에서 합성할 수 있는 폴리머에는 어떤 것이 있나요?

A: 특수 감광성 코팅 및 포토레지스트 첨가제용 산에 민감한 공중합체를 합성할 수 있습니다. 또한 생의학 약물 지속 방출 담체용 pH 반응성 고분자를 제조할 수도 있습니다.

Q: PTBS의 순도가 부족하면 포토레지스트에 어떤 영향을 미치나요?

A: 불순물은 수지 중합에 영향을 미쳐 포토레지스트 감도의 변동, 거친 패턴 가장자리, 낮은 리소그래피 해상도 및 칩 회로 패터닝의 정밀도 저하를 유발합니다.

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